電子行業(yè)清洗芯片清洗

發(fā)布時(shí)間：2022-10-19 所屬分類(lèi)：【行業(yè)應(yīng)用】閱讀：3757

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芯片制造過(guò)程中會(huì)在芯片表面出現(xiàn)4大污染問(wèn)題：顆粒、有機(jī)殘留物、無(wú)機(jī)殘留物和需要去除的氧化層。如果清洗的精度不夠，殘留的雜質(zhì)將會(huì)導(dǎo)致芯片電學(xué)失效，在芯片的生產(chǎn)中，80%的電學(xué)失效都是由沾污帶來(lái)的缺陷所引起，所以半導(dǎo)體清洗工藝對(duì)芯片的良率至關(guān)重要，也是清洗設(shè)備企業(yè)立足的根本，竟?fàn)巸?yōu)勢(shì)的所在。

由于清洗工藝過(guò)程不僅要?jiǎng)冸x晶圓表面的光刻膠，同時(shí)還必須去除復(fù)雜的蝕刻殘余物質(zhì)、金屬碎屑顆粒以及其它污染物等，因此，需要更新、更精細(xì)甚至更有利于環(huán)保的清洗方式。

DSJet利用干冰顆粒對(duì)半導(dǎo)體芯片表面的毛刺、顆粒物等雜質(zhì)進(jìn)行破碎，使半導(dǎo)體表面達(dá)到高潔凈度的要求。解決了半導(dǎo)體功率芯片表面顆粒、表面污染物清洗不徹底，進(jìn)行高壓測(cè)試時(shí)，會(huì)造成電壓擊穿或尖端放電等問(wèn)題。